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ASML光刻機(jī)

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就在7納米制程節(jié)點(diǎn)以下先進(jìn)制程的領(lǐng)域,必不可少的關(guān)鍵就是極紫外線微影(EUV)設(shè)備導(dǎo)入。除了三星用在首代7納米LPP制程,臺(tái)積電也自2019年開(kāi)始,將EUV導(dǎo)入加強(qiáng)版7納米+制程。

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