臺(tái)積電重申:目前公司產(chǎn)品并不需要高數(shù)值孔徑的EUV光刻機(jī)
臺(tái)積電的下一代工藝技術(shù),包括A16(1.6納米級(jí))和A14(1.4納米級(jí))工藝技術(shù),不需要這些最高端的光刻系統(tǒng)。
臺(tái)積電的下一代工藝技術(shù),包括A16(1.6納米級(jí))和A14(1.4納米級(jí))工藝技術(shù),不需要這些最高端的光刻系統(tǒng)。
臺(tái)積電在亞利桑那州的第一座晶圓廠已經(jīng)在去年第四季度開(kāi)始采用4nm制程技術(shù)進(jìn)行生產(chǎn)。
美方不斷濫用出口管制措施、實(shí)施長(zhǎng)臂管轄,持續(xù)加嚴(yán)對(duì)華半導(dǎo)體打壓遏制,割裂全球半導(dǎo)體市場(chǎng),這是對(duì)國(guó)際經(jīng)貿(mào)規(guī)則的嚴(yán)重破壞,對(duì)自由貿(mào)易的粗暴干涉,是典型的非市場(chǎng)做法。
相比去年同期減少了 4.9%,但相比上月增加了 13.6%,創(chuàng)下歷年同期次高的成績(jī)。
因先進(jìn)制程強(qiáng)勁市場(chǎng)需求,高雄廠確定以2nm的先進(jìn)制程技術(shù)生產(chǎn)規(guī)劃,赴德國(guó)投資逾38億美元設(shè)廠、核準(zhǔn)60.59億美元資本預(yù)算用于擴(kuò)廠及建置先進(jìn)封裝、成熟或特殊制程產(chǎn)能、增資美國(guó)子公